VAD法で光ファイバの工業的製造が可能であることを初めて実証した光ファイバ
現在、光ファイバ通信に多く用いられている光ファイバは、光が通る中心部分のコア・外側のクラッドという2層構造となっています。
VAD法とは、石英ガラスを原料として光ファイバのもととなる「母材」を製造する方法の1つで、ガラスの原料ガスから生成されるガラス微粒子（コア用・クラッド用）それぞれをバーナーで吹き付けて、2層構造を持つ円柱状の多孔質母材を作製、その多孔質母材に高温の加熱処理を施し透明化するという方法です。この母材を高熱で細く引き伸ばしたものが光ファイバとなります。
日本独自の光ファイバ製造方法をめざした研究開発
1960年代後半から通信用の伝送媒体としての実現可能性が提示されていたガラス製光ファイバについて世界で研究開発が始まるなか、1970年代初頭、NTTが光ファイバ製造技術の研究を開始します。米国で考案されていたMCVD法・OVD法などに接し、NTTは古河電工、住友電工、フジクラとの共同研究体制を立ち上げ、MCVD法の改良を行う一方、量産に適した日本独自の光ファイバ製造方法の考案をめざし研究開発を行いました。
100km長VAD単一モード光ファイバ
無接続・繋ぎ目なしの長尺作製が可能に
1977年には、国際会議「IOOC‘77」で量産性に優れた日本独自の光ファイバ製造方法としてVAD法を発表し、高く評価されました。
1977年以降もさらなる研究開発を推し進め、VAD法を用いた光ファイバ量産工程の確立、VAD法による超低損失光ファイバの製造方法確立などを実現していきました。VAD法が持つ、光ファイバ母材の大型化・低損失化がしやすいなどの特長に加え、継続的な研究開発により、極めて伝送損失の少ない光ファイバを無接続かつ継ぎ目なしで100km長以上の長尺で作製することが可能になり、光ファイバの量産化・経済化に大きく貢献しました。2021年現在も世界的に使われています。
用語解説
- VAD法：
- Vapor-phase Axial Deposition
光ファイバのもととなるガラス製の円柱（母材）を製造する方法のひとつ
- MCVD法：
- Modified Chemical Vapor Deposition
- OVD法：
- Outside Vapor Deposition
- IOOC‘77：
- 1977年に東京で開催された光IC/ファイバ国際会議
International Conference on Integrated Optics and Optical Fiber Communication, 1977
- 超低損失：
- 1980年時点で、VAD法による1.55μmで0.2dB/kmという超低損失のシングルモード光ファイバ開発に成功
